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Substrato de gran tamaño de 4 pulgadas SGGG, Gadolinium Gallium Garnet Single Crystal, (111) Polido de grado EPI, rotador de Faraday para módulos ópticos 1.6T / CPO, epitaxia de película magnetoóptica de alta capacidad

Substrato de gran tamaño de 4 pulgadas SGGG, Gadolinium Gallium Garnet Single Crystal, (111) Polido de grado EPI, rotador de Faraday para módulos ópticos 1.6T / CPO, epitaxia de película magnetoóptica de alta capacidad

Nombre De La Marca:	Crystro
Número De Modelo:	SCR-2026-08-26-03
Condiciones De Pago:	T/T, Western Union,

Información detallada

Descripción del producto

Información detallada

Lugar de origen:

Porcelana

Tamaño nominal:

4 pulgadas (Φ101,6 mm)

Estructura cristalina:

Cúbico, grupo espacial Ia3d

Enreje constante:

12,497 ± 0,003 Å

Rugosidad de la superficie:

Ra ≤ 1 nm, listo para EPI

Planitud (Max-Min):

≤ 6 μm (80% del área efectiva central)

Variación del grosor total:

≤ 6 micras

Densidad de dislocación:

≤ 10 cm⁻²（ 80% del área central）

Uniformidad de la red:

Oblea completa ≤ 0,003 Å

Constante dieléctrica:

ε ≈ 30

Resaltar:

Substrato SGGG de 4 pulgadas para rotador de Faraday

Galio Garnet Single Crystal Substrate del gadolinio

Substrato pulido de grado EPI para módulos ópticos

Descripción del producto

Sustrato SGGG de gran tamaño de 4 pulgadas, Cristal único de granate de gadolinio y galio, Pulido de grado EPI (111), Rotador de Faraday para módulos ópticos 1.6T/CPO, Epitaxia de película magneto-óptica de alta capacidad

El sustrato SGGG de gran tamaño de 4 pulgadas es una especificación de alta gama para las comunicaciones ópticas de alta velocidad de próxima generación (1.6T/CPO) y líneas de producción a gran escala. Con un diámetro de 101,6 mm y un grosor estándar de 800 ± 30 µm (o personalizado), se basa en tecnología de crecimiento de cristales únicos de gran tamaño. Uniformidad de la constante de red en toda la oblea ≤ 0,003 Å, densidad de dislocaciones ≤ 10 cm⁻², y área efectiva ≥ 80%. La producción de chips rotadores por oblea aumenta aproximadamente un 75% en comparación con los de 3 pulgadas, lo que reduce significativamente el coste por chip.

El crecimiento de cristales SGGG de gran tamaño es técnicamente exigente, requiriendo un estricto control del campo térmico, pureza de las materias primas y procesos de recocido. Mediante el crecimiento optimizado por Czochralski y el recocido en múltiples etapas, este producto logra una calidad de cristal de baja tensión, baja absorción y alta uniformidad. Combinado con planos primarios/secundarios y pulido súper liso de grado EPI, cumple los requisitos de producción en masa a gran escala de equipos de epitaxia de película magneto-óptica de alta gama.

Funciones Clave

Sustrato de alta capacidad para la era 1.6T/CPO:

El gran tamaño de 4 pulgadas se adapta a la producción en masa de rotadores de módulos de alta velocidad de próxima generación, más chips por oblea

Menor coste por chip:

Área efectiva ~75% mayor que la de 3 pulgadas, diluye los costes de epitaxia, corte e inspección

Epitaxia de película magneto-óptica de alta gama:

La alta uniformidad de la red garantiza un grosor de película BIG de gran área y una consistencia en el rendimiento magneto-óptico

Material central para sustitución nacional:

Rompe el monopolio extranjero de sustratos SGGG de gran tamaño, apoya la independencia de la cadena de suministro de módulos ópticos nacionales

Las etiquetas:

substrato laalo3

solos elementos cristalinos

aluminato del lantano

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Número De Modelo:	SCR-2026-08-26-03
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12,497 ± 0,003 Å

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Planitud (Max-Min):

≤ 6 μm (80% del área efectiva central)

Variación del grosor total:

≤ 6 micras

Densidad de dislocación:

≤ 10 cm⁻²（ 80% del área central）

Uniformidad de la red:

Oblea completa ≤ 0,003 Å

Constante dieléctrica:

ε ≈ 30

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El gran tamaño de 4 pulgadas se adapta a la producción en masa de rotadores de módulos de alta velocidad de próxima generación, más chips por oblea

Menor coste por chip:

Área efectiva ~75% mayor que la de 3 pulgadas, diluye los costes de epitaxia, corte e inspección

Epitaxia de película magneto-óptica de alta gama:

La alta uniformidad de la red garantiza un grosor de película BIG de gran área y una consistencia en el rendimiento magneto-óptico

Material central para sustitución nacional:

Rompe el monopolio extranjero de sustratos SGGG de gran tamaño, apoya la independencia de la cadena de suministro de módulos ópticos nacionales

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