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| Nombre De La Marca: | Crystro |
| Número De Modelo: | Se aplicará el método de cálculo de las emisiones de CO2 en el caso de las emisiones de gases de efe |
| Cuota De Producción: | 1 por ciento |
| Tiempo De Entrega: | 3-4weeks |
| Condiciones De Pago: | T/T, Western Union, MoneyGram, PayPal y otras formas de pago. |
EPI Polish GGG Substratos de cristal único
El Garnet de Gallio Gadolinio (Gd3Ga5O12 o GGG) subatratos de cristal único se utiliza como sustratos para el crecimiento de epitaxia líquida de película YIG o BIG.
Los sustratos GGG son sustratos dedicados para películas magnetoópticas.
El GGG se ha aplicado con éxito en la industria de la refrigeración magnética en la zona de temperatura inferior a 20 k para el flujo de HeII del mercado y la refrigeración pre-etapa de licuefacción de helio-nitrógeno.
El GGG de Crystro tiene bajas pérdidas ópticas ((<0,1%/cm), alta conductividad térmica ((7,4W m-1K-1), alto umbral de daño láser ((> 1GW/cm2)
| Tamaño | Diámetro máximo de 4 pulgadas |
| El grosor | 0.5 mm, 1.0 mm |
| Pulido | de una sola o de dos caras |
| Orientación | El valor de las emisiones de gases de efecto invernadero es el valor de las emisiones de gases de efecto invernadero. |
| Precisión de la orientación del borde | < 2° |
| Cortar el borde | de costumbre |
| La rugosidad | < 0,5 nm |
| Paquete | Salón limpio de grado mil, bolsas de vacío |
Propiedades principales:
| Formulación química | El D.3¿ Qué pasa?5¿ Qué?12 |
| Parámetro de laticidad | a=12.376Å |
| Método de crecimiento | Czochralski |
| Densidad | 7.13 g/cm3 |
| Dureza de Mohs | 8 |
| Punto de fusión | 1725°C |
| Indice de refracción | 1.954 a 1064 nm |
Documento:
Crystro tiene una máquina de producción automática perfecta, los productos actuales se concentran principalmente en los cristales YAG, TGG, TSAG,GGG,LGS,Ce:GAGG,Ce:YAG y Ce: LuYAG.
También establecimos un centro de investigación de cristales y desarrollamos diferentes tipos de cristales. Seguimos proporcionando apoyo técnico y capacitación para nuevas aplicaciones y personal de desarrollo de productos.
El video
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| Nombre De La Marca: | Crystro |
| Número De Modelo: | Se aplicará el método de cálculo de las emisiones de CO2 en el caso de las emisiones de gases de efe |
| Cuota De Producción: | 1 por ciento |
| Detalles Del Embalaje: | Caja limpia transparente |
| Condiciones De Pago: | T/T, Western Union, MoneyGram, PayPal y otras formas de pago. |
EPI Polish GGG Substratos de cristal único
El Garnet de Gallio Gadolinio (Gd3Ga5O12 o GGG) subatratos de cristal único se utiliza como sustratos para el crecimiento de epitaxia líquida de película YIG o BIG.
Los sustratos GGG son sustratos dedicados para películas magnetoópticas.
El GGG se ha aplicado con éxito en la industria de la refrigeración magnética en la zona de temperatura inferior a 20 k para el flujo de HeII del mercado y la refrigeración pre-etapa de licuefacción de helio-nitrógeno.
El GGG de Crystro tiene bajas pérdidas ópticas ((<0,1%/cm), alta conductividad térmica ((7,4W m-1K-1), alto umbral de daño láser ((> 1GW/cm2)
| Tamaño | Diámetro máximo de 4 pulgadas |
| El grosor | 0.5 mm, 1.0 mm |
| Pulido | de una sola o de dos caras |
| Orientación | El valor de las emisiones de gases de efecto invernadero es el valor de las emisiones de gases de efecto invernadero. |
| Precisión de la orientación del borde | < 2° |
| Cortar el borde | de costumbre |
| La rugosidad | < 0,5 nm |
| Paquete | Salón limpio de grado mil, bolsas de vacío |
Propiedades principales:
| Formulación química | El D.3¿ Qué pasa?5¿ Qué?12 |
| Parámetro de laticidad | a=12.376Å |
| Método de crecimiento | Czochralski |
| Densidad | 7.13 g/cm3 |
| Dureza de Mohs | 8 |
| Punto de fusión | 1725°C |
| Indice de refracción | 1.954 a 1064 nm |
Documento:
Crystro tiene una máquina de producción automática perfecta, los productos actuales se concentran principalmente en los cristales YAG, TGG, TSAG,GGG,LGS,Ce:GAGG,Ce:YAG y Ce: LuYAG.
También establecimos un centro de investigación de cristales y desarrollamos diferentes tipos de cristales. Seguimos proporcionando apoyo técnico y capacitación para nuevas aplicaciones y personal de desarrollo de productos.
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